プラズマ処理装置のための可動チャンバライナ・プラズマ閉じ込めスクリーン複合体

Movable chamber liner plasma confinement screen combination for plasma processing apparatuses

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma chamber that enhances the plasma density and uniformity and reduces process gas consumption.SOLUTION: A movable symmetric chamber liner in a plasma reaction chamber comprises a cylindrical wall, a bottom wall with a plurality of openings, a raised inner rim 2 with an embedded heater, heater 4 contacts, and RF ground return contacts. The chamber liner is moved by actuators 7 between an upper position, at which substrates 5 can be transferred into and out of the chamber, and a lower position, at which the substrates are processed in the chamber. The actuators also provide electrical connection to the heater and the RF ground return contacts.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】プラズマの密度および均一性を高め、処理ガスの消費を削減するプラズマチャンバを提供する。【解決手段】プラズマ反応チャンバ内に設けられた可動対称チャンバライナは、円筒壁、複数の開口部を有する底壁、埋め込みヒータを備える隆起した内側リム2、ヒータ4接点、および、RF接地帰還接点を備える。チャンバライナは、基板5がチャンバの内外に搬送されうる上側位置と、基板がチャンバ内で処理される下側位置との間を、アクチュエータ7によって移動される。アクチュエータは、ヒータおよびRF接地帰還接点への電気接続も提供する。【選択図】図1
【課題】プラズマの密度および均一性を高め、処理ガスの消費を削減するプラズマチャンバを提供する。 【解決手段】プラズマ反応チャンバ内に設けられた可動対称チャンバライナは、円筒壁、複数の開口部を有する底壁、埋め込みヒータを備える隆起した内側リム2、ヒータ4接点、および、RF接地帰還接点を備える。チャンバライナは、基板5がチャンバの内外に搬送されうる上側位置と、基板がチャンバ内で処理される下側位置との間を、アクチュエータ7によって移動される。アクチュエータは、ヒータおよびRF接地帰還接点への電気接続も提供する。 【選択図】図1

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